reactingTwoPhaseEulerFoam求解器的组分输运方程中添加质量源相导致质量分数无界
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reactingTwoPhaseEulerFoam求解器的组分输运方程中添加质量源相导致质量分数无界,这是什么原因,为什么没添加源相之前有界呢?如何处理才能避免质量分数远大于1?
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是的,添加源项会导致越界。$\frac{\p \phi}{\p t}+\bfU\cdot\nabla\phi=S$,只有在$S=0$的时候才有界。目前只能帮你到这里了
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@东岳 非常感谢东岳老师的回答,我有个疑问,这个求解器是可以算蒸发的,而且用的就是界面组分,他们是怎么处理的呢?就避免了越界。
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@zwl 你是说植入的Y方程么
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@东岳 对,就是自带的Y方程。
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Y方程没有详细看过。粗略看一眼并没有用MULES求解。另外,带源项要有界可以参考可压缩的相方程
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@zwl 会不会是源项处理有问题,求解不稳定,Interface Composition搞了个fvm::Sp:
此外可以考虑更换对流项格式,Laneer,Gamma01等 -
@yfclark 非常感谢你的建议。源相我确实是直接添加的,没有再做处理,这个Sp会有什么作用(虽然有时我也会模仿着这样处理)?越界的主要原因是什么?
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@东岳 那么下面带拉普拉斯项的组分输运方程如何采用MULES求解呢?谢谢。
fvm::ddt(alpha, rho, Yi) + fvm::div(alphaRhoPhi, Yi, "div(" + alphaRhoPhi.name() + ",Yi)") - fvm::laplacian ( fvc::interpolate(alpha) *fvc::interpolate(this->muEff()/Sct_), Yi ) == alpha*this->R(Yi) + Source + fvc::ddt(residualAlpha_*rho, Yi) - fvm::ddt(residualAlpha_*rho, Yi)
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扩散项+对流项用高阶/低阶格式处理,通过反扩散算法做出通量,源项进Sp或者Su就行
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@东岳 我看MULES代码,感觉他就是为求解相方程定制的,没有扩散相的处理,所以我不知道这里的扩散相放在哪个位置,怎么处理。
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@zwl 扩散项、梯度项、对流项都是通过高斯定律化为$\sum$加和的形式,都是一样的,以梯度项举例:
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对了,扩散项不会引起越界问题,或许你都不用处理了,扩散项是好朋友
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@zwl 你在研究E-E模型下面的组分传输么
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是的,求解器自带的是蒸发,我想计算空化,二者的计算原理大不相同,我更改了质量源相,导致质量分数越界。